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Iris Tondo

Al via il concorso di idee “Wilderness Pavilion Kenya”
Un padiglione nel cuore del parco naturale Amboseli in Kenya
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07/08/2018 - La piattaforma online Archasm invita i progettisti e gli studenti di architettura a disegnare un padiglione nel Parco Nazionale di Amboseli, uno dei parchi naturali protetti più conosciuti del Kenya.

La proposta progettuale per "Wilderness Pavilion Kenya” dovrà offrire una risposta poetica ai visitatori che vogliono entrare in contatto con l'ecosistema naturale e riflettere sul vero spirito della natura. Il padiglione dovrà diventare una 'finestra' e un'area di contemplazione affinché si possa sperimentare i panorami naturali attraverso esperienze olfattive, tattili e visive.

I partecipanti sono liberi di inserire qualsiasi tipo di funzione che si adatti alla loro narrazione. Lo spazio potrà essere un piccolo rifugio, un punto di osservazione, un centro di meditazione o anche un vestibolo privo di funzione se questo può essere di impatto sulla mente del visitatore.

Premi
- Primo classificato: INR 1,00,000/- + Certificato
- Secondo classificato: INR 60,000/- + Certificato
- Terzo classificato: INR 40,000/- + Certificato
- 10 Menzioni d'onore

I vincitori e i menzionati saranno pubblicati sul sito di Archasm e su altre riviste di architettura internazionali partner del concorso.


Quota di iscrizione
Early Registration | 1° agosto - 30 settembre 2018 
- Per partecipanti di nazionalità indiana: INR 1500 (per team) 
- Per partecipanti stranieri: EUR 60 (per team)

Standard Registration | 1 ottobre - 30 ottobre 2018
- Per partecipanti di nazionalità indiana: INR 1800 (per team) 
- Per partecipanti stranieri: EUR 80 (per team)

Per promuovere la partecipazione degli studenti universitari, sono previsti sconti per gruppi di minimo 5 team provenienti dalla stessa università scrivendo a [email protected] 

Website: www.archasm.in 
Facebook: www.facebook.com/atarchasm 


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Wilderness Pavilion Kenya

Un padiglione nel cuore del parco Amboseli per ritrovare il vero spirito della natura.



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